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NanoCalc 薄膜反射測量系統

      薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統可以用來進行10nm~250μm的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。

     常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。

技術參數

入射角	90°
層數	3層以下
需要進行參考值測量	是
透明材料	是
傳輸模式	是
粗糙材料	是
測量速度	100ms - 1s
在線監測	可以
公差（高度）	參考值測量或準直(74-UV)
公差（角度）	參考值測量
微黑子選項	配顯微鏡
顯示選項	配顯微鏡
定位選項	6"和12" XYZ 定位臺
真空	可以

產品特點

• 可分析單層或多層薄膜
• 分辨率達0.1nm
• 適合于在線監測
• 操作理論

查找n和k值

      可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數材料的n和k值數據庫，用戶也可以自己添加和編輯。

應用

      NanoCalc薄膜反射材料系統適合于在線膜厚和去除率測量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質上的抗反射涂層、抗磨涂層等。

NC-UV-VIS-NIR      波長范圍：250-1100 nm；厚度：10 nm-70 μm；光源：氘鹵燈

NC-UV-VIS           波長范圍：250-850 nm；厚度：10 nm-20 μm；光源：氘鹵燈

NC-VIS-NIR          波長范圍：400-1100 nm；厚度：20 nm-100 μm(可選1μm-250μm)；光源：鹵燈

NC-VIS                波長范圍：400-850 nm；厚度：50 nm-20 μm；光源：鹵燈

NC-NIR                波長范圍：650-1100 nm；厚度：70 nm-70 μm；光源：鹵燈

NC-NIR-HR           波長范圍：650-1100 nm；厚度：70 nm-70 μm；光源：鹵燈

NC-512-NIR          波長范圍：900-1700 nm；厚度：50 nm-200μm；光源：高亮度鹵燈